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FEl Helios Nanolab G3 UC双束显微镜系统

发布日期:2025-10-11    浏览量:

多种探头DBS、STEM、MD、ICD、TLD及ETD用于样品微观形貌观测,具有低电压下分辨率超高的特点,同时可对样品进行精密加工,包括:离子束刻蚀、离子/电子束沉积、高质量定点刻蚀加工,配置能谱及背散射衍射系统可分析样品微区成分、测定晶粒取向分布。

主要技术参数

电子束分辨率:0.6nm@2kV;0.7nm@lkV;1.0nm@500V

离子束分辨率:4.0nm@30kV

STEM分辨率:0.6nm@30kV

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